多功能離型層

多功能離型層

應用

適用於矽晶片與玻璃載具的暫時接著製程。雷射製程中所搭配的特殊剝離塗層材料,可將製程後的矽晶片輕易地從玻璃載具上分離,留下潔淨的表面。此雷射剝離塗層之耐熱性佳,可承受製程溫度高於 300°C,同時能搭配各種貼合膠材。

產品特性

 

  • 優異的耐熱性(耐熱溫度 > 300° C)
  • 雷射離型製程容易剝離清除
  • 可用於多種雷射光波長(含308/355/532/1064nm,吸收效率高)
  • 可光學對位
  • 耐化性佳

產品規格

產品名稱

LRA series

特點

High laser absorption efficiency
IR absorption

雷射離型波長

μm

308~1064

清除方法

Plasma

建議製程條件塗佈方式

-

Slit Or Spin

軟烤

°C ; min

90 ; 10

硬烤

°C ; min

250 ; 30