產品介紹
奈米微影製程用高純度特用化學品
奈米微影製程用高純度特用化學品
光阻頂部塗層
應用
達興提供適用於浸潤式曝光用的上層保護材料，可防止光阻成分溶入液體(ex: 水)，避免光阻成份組成變化，也可作為折射率調節功用，另有多種奈米微影製程用特用化學品開發中。
產品特性
- 高撥水性
- 鹼可溶性佳
- 與下層光阻無溶解與溶出現象
產品規格
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產品名稱 Product Name |
DTC series |
備註 Remarks |
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特點 Features |
High dissolution rate Low metal ions |
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建議製程條件 Recommend ProcessConditions |
軟烤 Pre-bake |
oC ; min |
80 ; 1 |
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折射率 Refractive Index at 193nm |
- |
1.53-1.60 |
@THK=500Å Customized |
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消光係數 Extinction Coefficient at 193nm |
- |
<0.01 |
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後退角 Receding Angle |
degree |
70o-75o |
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