產品介紹

濕製程用高純度特用化學品

濕製程用高純度特用化學品

特用去除液

 應用

伴隨新世代的製程技術開發,半導體製程中3D 結構不斷演進,積體電路中的材料也逐漸更多樣且複雜。為了解決不同材料界層間的影響(inter-mixing) 及發展選擇性沉積(selective deposition) 結構的技術,達興材料提供客製化特用去除液來滿足在微結構製程的需求,其中包含製程副產物及金屬-有機材料(metal-organic materials)的去除。

 特性

  • 高浸潤性 
  • 高去除選擇比 
  • 針對廣泛的材質可客製化 
  • 低界層混和效應 
  • 高純度/ 低金屬雜質