產品介紹

液晶顯示器材料

液晶顯示器材料

黑色光阻

 應用  

黑色矩陣光阻(Black Matrix Resist)應用於液晶顯示器之彩色濾光片，藉其高光遮蔽性區隔RGB三原色並提高對比。除基本高光遮蔽、耐熱及耐化特性外，因應客戶在高解析度的面板產品需求，達興由基礎原料出發，以自有樹酯合成、單體改質和碳黑分散技術等，開發所需之關鍵原料，搭配配方技術與經驗，推出應用於次世代之高解析和高阻抗之黑色光阻產品。

  • 製程方式: 負型光阻製程 (同彩色光阻)

    •  產品特性

    1. 色彩表現: 高光遮蔽性
    2. 製程特性: 高塗佈均勻性、高感度、高附著、較大顯影製程窗口
    3. 可靠度: 高耐熱性、高耐光性、高耐化性、高儲存安定性

        特殊開發：用於高解析度液晶面板之黑色矩陣光阻

     

     

     產品分類

    產品名稱
    Product Name    		 ABK406X ABK408X 備註
    Remarks
    適用範圍
    Field of Application    		 Full High Definition Ultra High Definition  
    特點
    Features    		 Standard High Resolution
    High Resistance    		  
    黏度
    Viscosity    		 cP 3.0 ± 0.5 3.0 ± 0.5  
    固含量
    Non-Volatile Matter Content    		 % 13~15 13~15  
    線幅
    Line Width    		 μm 8 ~ 30 4 ~ 8  
    殘膜率
    Remaining Film Thickness    		 % 75 ~ 85 75 ~ 85 After PB/ Before PB
    (PB: 230°C x 20min)
    製程條件
    Process Conditions    		 軟烤
    Soft-Bake    		 °C; sec 70~120; 90 70~120; 90  
    曝光能量
    Exposure Energy    		 mJ / cm2 45 ~ 100 45 ~ 100  
    顯影
    Development    		   KOH / Buffer KOH / Buffer At 23°C ~ 25°C
    硬烤
    Hard-Bake    		 °C; min 230; 20 230; 20  
    遮蔽率
    Optical Density     		/ μm 4.4 ~ 4.0 4.4 ~ 3.0  
    表面電阻率
    Surface Resistivity    		 Ω / □ 1 x 108 > 1 x 1014  
    耐化性
    Chemical Resistance    		 IPA (ODBefore-ODAfter)/ μm < 0.1 < 0.1 After 25°C Dip 5min +120°C x 2mins
    NMP
    γ-buthyrolactone
    PGME
    DPGME    		 (ODBefore-ODAfter)/ μm < 0.1 < 0.1 After 25°C Dip 5min + 240°C x 15mins
    熱重損失
    Weight Loss    		 % < 3 < 3 After PB + 230°C x 60min by TGA
    壓力鍋蒸煮試驗
    Pressure Cook Test     		  5B 5B After PB + 230°C x 180min 121°C, 2atm, RH 100% for 24hr 百格測試